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2020-05-22 浏览量:395 点赞:927 收藏:150

台积电昨(7)日宣布,领先业界导入极紫外光(EUV)微影技术的7奈米强效版(N7+)製程已协助客户产品大量进入市场,且6奈米製程(N6)预定明年第一季试产、明年底量产,进一步巩固台积电在7奈米以下先进製程的全球独霸地位,激励台积ADR昨天在美股劲扬1.12%,今天在台股午盘前更一度跃升2.5%至285元,再创历史新高价,市值也同步超越7.3兆元。

美国财经新闻媒体霸荣(Barron’s)报导,台积电凭藉持续创新及投入大量研发资金,在高阶製程技术上持续创新,不仅是苹果(Apple)、高通(Qualcomm)、辉达(Nvidia)及超微(AMD)等硅谷大厂不可或缺的代工伙伴,更俨然成为人工智慧(AI)、5G及云端运算等概念的投资题材。 

华尔街巨擘摩根大通估计,在高阶製程先后上线的助攻下,台积电大约能吃下全球晶圆代工市场50%营收,以及80~90%的利润,把南韩三星等竞争对手远远抛在后头。 

台积电昨天在声明中指出,导入EUV微影技术的N7+奠基于台积成功的7奈米製程之上,为6奈米和更先进製程奠定良好基础。 

N7 +的量产速度为史上量产速度最快的製程之一,于2019年第二季开始量产,在7奈米製程技术(N7)量产超过一年时间的情况下,N7+良率与N7已相当接近。 

其次,EUV微影技术使台积电能持续推动晶片微缩,因为EUV的较短波长能够更完美地解析先进製程的设计。台积电EUV设备已达成熟生产的实力,EUV设备机台亦达大量生产的目标,在日常运作的输出功率都大于250瓦。

台积电业务开发副总经理张晓强博士说:「AI和5G的应用为晶片设计开启了更多的可能,使其得以许多新的方式改善人类生活,我们的客户充满了创新及领先的设计理念,需要台积公司的技术和製造能力使其实现。我们在EUV微影技术上的成功,是台积公司不仅能够具体落实客户的领先设计,同时凭藉我们卓越的製造能力,亦能使其大量生产的另一个绝佳证明。」 

台积电也说明,N7+成功经验是未来先进製程技术的基石。随着EUV微影技术的进一步应用,N6的逻辑密度将比N7提高18%,而N6凭藉着与N7完全相容的设计法则,亦可大幅缩短客户产品上市的时间。

台积製程技术euvn7客户微影设计先进

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